专为OLED有机发光半导体光刻曝光工艺打造
极致纯度 99.999% · 金属离子≤10ppt · 适配全体系OLED
| 产品名称 | TMAH 光刻显影液(2.38%) |
|---|---|
| 纯度等级 | G5级(99.999%) |
| 浓度 | 2.38% 水溶液 |
| 金属离子 | ≤10 ppt |
| 适用工艺 | OLED光刻显影 / G线·I线光刻 |
以高纯度、高兼容性、高稳定性,为OLED器件良率与稳定性双重护航
G5级高纯度(99.999%),金属离子≤10ppt无,卤素、无杂质残留,从源头杜绝器件漏电、亮度衰减等问题,远超普通G4级标准,是OLED有机层光刻的专属之选。
2.38%质量分数水溶液,契合全球OLED面板厂通用规格,在25℃、60s标准显影条件下,可实现精准显影,无残胶、无侧蚀，完美匹配光刻工艺需求。
经权威实测验证,与OLED全体系材料适配性优异,性能稳定可控。红/绿光OLED亮度衰减<3%,蓝光OLED衰减<5%,空穴传输材料接触角变化<2°,无界面失效风险。
经专业机构检测验证，全体系材料适配性优异
聚焦OLED有机发光半导体领域,广泛应用于高端量产线
适配Alq₃、Ir(ppy)₃等主体发光材料,溶解率＜0.5%，1000h亮度衰减＜3%，与标准工艺完全兼容，保障红绿光器件长期稳定性。
专为FIrpic、TADF等蓝光材料设计，G5级专属配方，亮度衰减＜5%（G4级超12%不可用），解决蓝光OLED光刻良率难题。
接触角变化＜2°,润湿性良好,无界面失效风险,薄膜粗糙度增加＜0.3nm,确保空穴传输层图形精度与器件性能。
每批次产品均提供权威检测报告，批次稳定性强